動態(tài)盤式反應器

產(chǎn)品型號：
更新時間：2025-10-23
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簡要描述：動態(tài)盤式反應器：巖征以自動化技術(shù)為核心優(yōu)勢，專注于多通道固定床反應器、高通量催化劑評價裝置、實驗室反應裝置、微型反應釜、實驗室高壓反應釜、成套連續(xù)反應裝置等領(lǐng)域，為化工、科研、環(huán)保、制藥、醫(yī)療多個行業(yè)客戶提供成套設(shè)備和一體化解決方案。

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產(chǎn)品詳情

品牌	巖征儀器	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應用領(lǐng)域	綜合

動態(tài)盤式反應器

動態(tài)盤式反應器是一種通過旋轉(zhuǎn)圓盤強化傳質(zhì)與反應效率的新型設(shè)備，借助圓盤高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的剪切力與界面更新作用，實現(xiàn)多相體系的高效混合與轉(zhuǎn)化，廣泛應用于精細化工、材料合成及環(huán)境工程領(lǐng)域。

其核心結(jié)構(gòu)包含旋轉(zhuǎn)圓盤組件（材質(zhì)可選不銹鋼、陶瓷或聚四氟乙烯，直徑通常為 10-50 cm，可單盤或多盤疊加）、固定反應腔體、進料分布器、驅(qū)動系統(tǒng)（轉(zhuǎn)速可調(diào)范圍 500-5000 r/min）及溫控夾套。圓盤表面可設(shè)計成光滑、多孔或帶凸起結(jié)構(gòu)，部分設(shè)備集成催化劑涂層或篩網(wǎng)，適配氣 - 液、液 - 液及液 - 固反應體系。

工作時，反應物經(jīng)分布器均勻噴灑于旋轉(zhuǎn)圓盤表面，在離心力作用下形成厚度僅數(shù)十至數(shù)百微米的液膜，同時圓盤旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的強烈剪切力打破相界面張力，使氣液接觸面積達 500-2000 m2/m3，遠高于傳統(tǒng)攪拌釜（10-100 m2/m3）。液膜在圓盤邊緣被甩出后與腔體壁面碰撞，進一步破碎成微小液滴，通過反復更新界面強化傳質(zhì)，使反應速率提升 3-10 倍。

應用領(lǐng)域中表現(xiàn)突出：精細化工領(lǐng)域用于染料中間體的重氮化反應，通過精準控制液膜厚度使反應時間從 2 小時縮短至 15 分鐘，產(chǎn)物純度達 99.5%；廢水處理中可高效進行臭氧氧化，對含氰廢水的處理效率達 99%，處理量可達 1-20 m3/h；材料合成中用于納米顆粒制備，如 TiO?納米粉體的連續(xù)合成，粒徑分布偏差可控制在 5% 以內(nèi)。

其顯著優(yōu)勢在于：傳質(zhì)效率高（體積傳質(zhì)系數(shù)可達 0.1-1 s?1）、反應時間短、占地面積小（僅為同等產(chǎn)能攪拌釜的 1/5），且通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速可靈活調(diào)控反應強度。此外，模塊化設(shè)計便于串聯(lián)組合，適應從實驗室小試到工業(yè)化生產(chǎn)的規(guī)模放大，是過程強化技術(shù)中實現(xiàn)高效、低耗反應的重要設(shè)備。

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